朗道燧岩国产EUV光源样机亮相工博会：国产化率90%，量产仍需3至5年
Miranda 2026年第二十六届中国国际工业博览会期间，朗道燧岩在国家会展中心（上海）首次展示了一台极紫外（EUV）光源系统样机。据现场工作人员介绍，该光源系统国产化率达到90%，多数核心零部件为自主研发，技术路线与国际领先厂商一致，可用于芯片曝光测试。
EUV光源是7nm及以下先进制程芯片制造的三大核心零部件之一，长期受海外技术垄断与禁运限制。朗道燧岩官网已列出多款EUV产品，其中高功率极紫外光源系统FlintMicro-LPP系列已完成原理论证，低功率极紫外光源系统FlintNano-LPP系列已进入产品化阶段。以FlintNano LPP-OXXO为例，其驱动激光功率为1000W，激光频率1至20kHz，EUV能量大于15W，持续工作时间超过100小时。
朗道燧岩成立于2024年，创始人王豪博士团队以清华大学气体放电等离子体实验室的研发成果为基础，聚焦LPP-EUV光刻光源技术。公司先后完成天使轮、天使+轮及A轮融资，投资方包括张江高科旗下燧玥创投、沃衍资本、中芯聚源等。目前公司拥有燧岩、辉光、天算三大核心业务板块，分别对应EUV光源系统、大功率二氧化碳轴快流激光器以及等离子体仿真软件。
现场工作人员表示，该光源系统距离量产仍需3至5年时间，当前主要挑战是提升输出功率和长期运行稳定性。商用EUV光刻系统要求光源功率达到数百瓦级别，并能长时间保持可靠运行。此次展出的样机验证了技术路线的可行性，但距离工业级应用所需的产品成熟度仍有差距。
